高级型脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced PLD

技术指标

衬底尺寸：10mm x10mm到直径2英寸

沉积室：直径12英寸

衬底温度：最\高850°C，辐射加热器，氧兼容

多目标传送带：6 × 1英寸或3 × 2英寸

质量流量控制器(s)：一个MFC氧气是标准的，更多的MFC是可选的

软件控制：Windows 7, Labview 2013

升级：RHEED, RF-DC溅射/ DC离子源，LAXS, IES，激光加热器

Pioneer 120 Advanced PLD System 是一个用于制备高质量的外延薄膜独立的系统、多层异质结构和各种材料的超晶格。这个PLD系统和the Pioneer 120 PLD System 的主要区别是衬底加热阶段。先锋120采用导电加热阶段，而Pioneer 120 Advanced PLD System 采用辐射加热阶段。加热器可兼容1大气压(760托)的氧气，这是一特性用于制备外延氧化膜，需要(i)沉积在氧气中，(ii)沉积后退火在氧气中，以及在接近1大气压的氧气中冷却。由于基底不与加热器直接连接，可以连续旋转360度。衬底也可以负载锁定。

这个脉冲激光沉积系统包括一个自动多目标转盘，带有目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013) 控制基材加热器、目标转盘、过程压力、系统泵和激光触发。由于衬底可以转移，可进行多种选择。这些包括但不限于将PLD系统与各种其他沉积平台(如超高真空溅踱系统)集成，也与超高真空分析系统(如XPS/ARPES等)集成。